原理と応用 | 300L/H-1500L /hミキサーの混合に適しており、装置全体のレイアウトはコンパクトで、高性能制御システムとセンサーが装備されており、強力な安定性があります。パルプ化効率が高く、エネルギー消費が少なく、作業場占有スペースが小さく、クリーンでメンテナンスが容易で、長期運転コストを節約し、分散効果が良好で、連続大量生産を実現できます。 |
オプション | 300L/h～1500L/h パルプ化システムはオプションです |
300L/h～1500L/h | |
| 主な材質 送り精度 | 供給量 ≥150kg の場合、精度: ± 0.1% 供給量 |
| 補助材料 送り精度 | 供給量 ≥30kg の場合、精度: ± 0.1% 給餌量 |
設備の利点 | ●エネルギーを節約し、消費量を削減し、ランニングコストを節約します。 ●密閉環境での操作、環境要件が低いため、スラリー化プロセスと品質の低下を防ぎます。 環境要因の影響を受ける ●人件費を削減する自動供給・分配システム ●コンパクトなシステムレイアウト、圧縮された機器形状、省スペース化 ●高性能制御システムとセンサー、強力な安定性、MESとの接続をアップグレード可能 ●連続生産、少量供給、1時間後連続出力。 |
原理と応用 | 装置は、インテリジェント制御パネルまたは中央制御システムによって、準備された混合プロセスに従って自動的に動作できます。 2つのスパイラル型混合スラリーと2組のジグザグ分散ディスクを備え、それぞれ二重遊星構造で駆動され、さまざまな粉体や液体の効率的な混合に対応します。撹拌、分散などのプロセスの後、粒子サイズ、粒子分布の均一性、粘度の一貫性を制御できます。同時に、混合バレルには迅速な交換と真空シールの機能があり、真空引きすることでスラリー内の気泡を除去できます。混合、パルププロセスの要件を満たすために。 |
設備構成 | 装置は柱構造、伝達部、密閉容器、昇降装置、制御装置等で構成されています。 |
適用粉体 | PVDF、CMC、導電剤、リン酸鉄リチウム、コバルトリチウム、三元系、グラファイト等； |
スラリー粘度の製造 | 1000～100,000MPa・s、固形分30%～70%、85%～100%に適用可能、 |
惑星の回転(回転) | 0～35rpm |
プロペラ速度(自動回転) | 0-60rpm |
分散速度 | 0~5000 RPM、可変周波数速度調整 |
ミキシングパラメータ制御 | 混合および分散時間、速度および真空度、温度 PLC 自動制御 |
| 原理と応用 | 塗布ローラーの回転によりスラリーを駆動し、ブレードギャップを調整することでスラリーの搬送量を調整し、バックローラーまたは塗布ローラーの回転によりスラリーを基材に転写し、塗布層の厚みを制御する装置です。プロセス要件に応じた重量要件を満たすと同時に、基板上に塗布されたスラリー中の溶媒が乾燥および加熱によって除去され、固形分が基板に良好に結合されます。 |
装置速度 | 最大5m/分 |
塗装方法 | 連続塗布・転写ギャップ塗布 |
主な材質 | コバルト酸リチウム、三元系材料、リン酸鉄リチウム、マンガン酸リチウム |
粘度 | 1500～30000cps |
塗布幅 | 100～300mm |
単一面密度範囲 | 正極 100-300g/m2、負極 100-250g/m2; |
乾燥後の塗膜厚さ | 50-200um |
コーティング乾燥厚さエラー | 片側±2μm、両面±3μm（エッジ、ヘッド、テール8mmを除く） |
容姿要件 | しわなし、損傷なし、波エッジなし、傷なし、亀裂なし、膨らみなし、汚染なし |
原理と応用 | 装置は、巻出し、前後張力制御、前後修正制御、延伸機構、予熱（正極のみ）、ロールプレス、厚み測定、巻取り等で構成されています。磁極シートを圧延した後、コーティング層の密度が増加し、厚さの精度が向上するため、一定の張力の巻き戻しから一定の圧力での圧延、その後の自動巻き取り、および履歴データのクエリとエクスポートの要件を満たすことができます。主要パラメータのリアルタイム表示、問題アラームおよび原因追跡機能。 |
装置速度 | 10m/分（最大15m/分） |
箔の厚さ | +：10～30um -：6～20um |
極板の厚さ | 50～300μm |
箔幅W1 | ≤400mm |
ロール板厚精度 | ±2μm（正常部）、CPK≧1.33 ±3μm（薄層部）、CPK≧1.33 |
圧縮密度 | （正極圧密） 3.4 g/cm3～3.6 g/cm3（三元系）、2.2g/cm3～2.6 g/cm3（リチウム鉄）；（負極圧密） 1.5 g/cm3～1.7 g/cm3 |
巻線の位置合わせ | ±0.5mm |
容姿要件 | しわ、損傷、波打ちエッジ、傷、亀裂、膨らみ、汚染などがないこと。 |
| 原理と応用 | Z型積層モードを採用しています。振動板は張力機構と補正機構を介して積層テーブルに導入され、積層テーブルは振動板を駆動して前後に移動させて磁極片を配置します。正極片と負極片はそれぞれマニピュレータの吸引機構により材料箱から取り出され、二次位置決め台後の積層テーブル上に正確に位置決めされる。ラミネート完了後、電池セル荷重移動機構により電池セルを搬送し、ダイヤフラムを切断し、自動的に接着剤を貼り付けます。 |
ラミネート速度(S/枚) | 1.0～1.2 |
ポジティブ/ネガティブの位置決め | 垂直および水平CNC調整を実現でき、調整範囲は0～20mm、精度は±0.05mmです。 |
局検出 | 超音波センサーで極板を検知し、複数個、個数不足、欠品、警報停止を防止します。機械的位置決め、極板コーナーおよび極耳 角度検出および警報停止 |
ダイヤフラム | アクティブなくつろぎ。張力制御;絞り補正。ダイヤフラムから静電気を除去します。ダイヤフラムエンドアライメント精度：±0.3mm（ヘッド・テールアライメント±0.5mm） |
積層数 | 厚み適応範囲内で設定可能 |
高精度 | ポールピースの正確な位置決めにより、スタック内のポールピースの全体精度は ±0.5mm に達することが保証されています (隣接するポールピースの位置合わせ精度は ±0.3mm)。極板と振動板の調心精度：中心ずれ±0.3mm。 |
コントロール | 粉塵0.5ミクロン、1000以上（測定位置）、腐食性ガス、液体、爆発性ガスがないこと。 |
適格レート（不良品の入荷を除く） | 99%以上（不良品の入荷は除く） |
| 原理と応用 | オーブンはリチウム電池セルとポールピースのベーキングとエージングに使用でき、反射板は均一で、エアフロー技術が使用されています。インテリジェントなプロセス制御と問題追跡により、高温、一定温度、真空維持、上昇および冷却速度の点で大幅に改善されました。 プログラム設定可能サイクル0～99回調整可能、加熱時間0～999分調整可能、バキューム時間0～999分、放置時間0～999分、窒素充填時間0～999分、熱風サイクル時間0～999分 |
制御モード | 現場の生産プロセス（加熱、真空、静的ベーキング、窒素充填、熱風循環、冷却冷却など）に応じてパラメータを設定します。設定完了後、プログラムを起動すると、オーブンが設定した工程を自動で実行します。 |
空気源圧力 | 圧縮ガス：0.4～0.6Mpa、最大流量：1L/s 真空源：0.5~5Pa、最低排気速度：500m3/H 乾燥ガス：0.5～0.2MPa、最大流量値：5m3/H |
基本的な加熱原理 | 内外二重循環、クロスエアヒーティング制御前後の内部循環 |
オーブン温度 | 常温〜150℃まで設定可能、機器側で補正値を調整可能 |
加熱速度 | 無負荷、真空条件：85℃≦45min 全負荷非真空条件：85℃≦90min |
冷却モード | 自動冷却機能を備えたオーブンフェーズはチラーに接続されており、チラーによりオーブンの外層が強制的に冷却されます。 |
真空ポンプポート限界圧力 | 真空ポンプ; SV300B+JRP1000 ルーツ排気速度:1000L/min:限界圧力; ≦5pa。 |
タンクの全負荷空到達圧力値 | 約10pa〜100pa：特定の真空値は真空時間に関係しており、高真空を効果的にするには長時間排気する必要があります。実際の真空値は段階的な値であり、時間とオブジェクトの体積に関連します。真空度が無負荷真空値に近いほど、水分除去効果がより徹底していることを意味します。 |